Hellma氟化鈣LD-A-級(jí)CaF?晶體具備化學(xué)惰性

更新時(shí)間：2026-02-09

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廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商

生產(chǎn)地址：德國(guó)

簡(jiǎn)要描述：

Hellma氟化鈣LD-A-級(jí)CaF?晶體具備化學(xué)惰性
化學(xué)惰性與環(huán)境穩(wěn)定性
LD-A-級(jí)CaF?晶體具備化學(xué)惰性，在常溫下不與強(qiáng)酸（除濃H?SO?、HF外）、強(qiáng)堿、有機(jī)溶劑發(fā)生反應(yīng)，可耐受半導(dǎo)體光刻工藝中的光刻膠、顯影液、蝕刻液等化學(xué)環(huán)境的腐蝕，表面無(wú)變色、溶蝕現(xiàn)象。晶體表面經(jīng)疏水/疏油鍍膜處理后，水接觸角≥110°，可有效防止水汽、油污吸附，在高濕度（RH≤95%）環(huán)境下使用無(wú)潮解、霧化

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產(chǎn)品介紹

品牌	其他品牌	產(chǎn)地類別	進(jìn)口
應(yīng)用領(lǐng)域	醫(yī)療衛(wèi)生,食品/農(nóng)產(chǎn)品,化工,生物產(chǎn)業(yè),制藥/生物制藥

Hellma氟化鈣LD-A-級(jí)CaF?晶體具備化學(xué)惰性

化學(xué)惰性與環(huán)境穩(wěn)定性

LD-A-級(jí)CaF?晶體具備化學(xué)惰性，在常溫下不與強(qiáng)酸（除濃H?SO?、HF外）、強(qiáng)堿、有機(jī)溶劑發(fā)生反應(yīng)，可耐受半導(dǎo)體光刻工藝中的光刻膠、顯影液、蝕刻液等化學(xué)環(huán)境的腐蝕，表面無(wú)變色、溶蝕現(xiàn)象。晶體表面經(jīng)疏水/疏油鍍膜處理后，水接觸角≥110°，可有效防止水汽、油污吸附，在高濕度（RH≤95%）環(huán)境下使用無(wú)潮解、霧化問(wèn)題。

此外，晶體的抗輻射性能經(jīng)優(yōu)化，在193nm高功率激光長(zhǎng)期輻照（累計(jì)能量≥10? J/cm2）下，無(wú)明顯的色心形成，光學(xué)性能衰減≤1%，遠(yuǎn)優(yōu)于普通CaF?晶體（衰減≥5%），保障光學(xué)元件的長(zhǎng)壽命使用，降低高光學(xué)系統(tǒng)的維護(hù)成本。

Hellma LD-A-級(jí)CaF?（193nm）核心技術(shù)參數(shù)表

參數(shù)類別	具體指標(biāo)	測(cè)試條件/說(shuō)明
線性吸收系數(shù)	≤0.001 cm?1	λ=193nm，室溫
193nm透光率	≥92%	厚度10mm，未鍍膜
光學(xué)均勻性	Δn≤1×10??/cm	20℃，λ=632.8nm
雙折射	≤5×10??	193nm波段
熱膨脹系數(shù)	18.9×10?? K?1	20℃~200℃
熱導(dǎo)率	9.7 W/(m·K)	25℃
維氏硬度	158 HV	500g載荷
抗激光輻照性能	性能衰減≤1%	累計(jì)能量≥10? J/cm2@193nm
表面粗糙度	Ra≤0.5nm	拋光面
化學(xué)惰性	耐酸堿/有機(jī)溶劑（除HF、濃H?SO?）	常溫，浸泡72小時(shí)沈陽(yáng)漢達(dá)森yyds吳亞男